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反應離子蝕刻（RIE）

Technology: 反應離子蝕刻（RIE）. FLEX系列產品. Atomic Layer Etch (ALE) 反應離子蝕刻（RIE）. Lam Research的介電層蝕刻系統具備應用導向功能，可用來建構先進元件中 

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RIE is an accessible, two-generation, integrated approach to caring for babies from birth to two years old that supports development across all developmental 

反应离子刻蚀(RIE)

反应离子刻蚀（或RIE）是一种操作简单、经济实惠的通用等离子体刻蚀解决方案。一个射频等离子体源即可决定离子密度和能量。

反應離子蝕刻｜莎姆克股份有限公司

反應離子蝕刻(RIE)系統是一個加工微米級奈米構造的電漿蝕刻系統. 在RIE蝕刻製程上, 基板表面上會形成揮發性化合物的互動作用及低壓產生的高能量離子/活性基. 當揮發 

反應離子刻蝕- 維基百科，自由的百科全書

反應離子蝕刻（英文：Reactive-Ion Etching，或簡寫為RIE）是一種半導體生產加工工藝，它利用由電漿體強化後的反應離子氣體轟擊目標材料，來達到刻蝕的目的。

感應耦合電漿蝕刻

感應耦合電漿（ICP）蝕刻是在標準反應離子蝕刻（RIE）的基礎上，添加電感耦合電漿的。感應耦合電漿由磁場圍繞石英晶體管所提供。產生的高密度電漿被線圈包圍，將充當 

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